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鳴海 一雅; 楢本 洋
Surface & Coatings Technology, 158-159, p.364 - 367, 2002/09
Si(111)上のC薄膜に、7MeV Cイオンを照射し、C薄膜に対するイオン照射効果を原子間力顕微鏡,顕微ラマン分光を用いて調べた。ラマン分光の結果より、照射前のC薄膜は部分的にポリマー化しており、イオン照射によって脱ポリマー化が進み、1.110/cmの照射量でポリマー成分が消失することがわかった。さらに照射量を増やすと、C分子の解離が始まり、1.110/cmの照射量では非晶質炭素化が進んでいることが観測された。原子間力顕微鏡を用いた電気伝導性の評価においては、1.110/cmの照射量で電気伝導性が認められた。これらの結果から、イオン照射によるC分子の解離によって、ほぼ絶縁体であるC薄膜に電気伝導性が生じたと考えられる。
有賀 武夫; 片野 吉男*; 大道 敏彦*; 實川 資朗
Surface & Coatings Technology, 158-159, p.444 - 448, 2002/09
アルミナ(AlO),スピネル(MgAlO),マグネシア(MgO)焼結体試料にタンデム加速器からの85MeVのヨウ素イオンを110/mの線束で最高1.210/mまで室温照射した。1.210/mまで照射したスピネルでは~6mの深さまで完全に非晶質化したことが、透過電顕の観察からわかった。しかし結晶粒によっては6.5mの深さまで非晶質化が起こり、イオンの飛行方向と粒の方位に関係して非晶質化が起こることを指摘した。またスピネルでは、アルミナで認められたような、非晶質化しかかっている粒が、既に非晶質化した表面近くの領域に移動する現象は生じない。さらにスピネルとマグネシアでは照射後3~3.5年で、表面に0.1m以下の厚さの、金属光沢をもって薄膜が形成された。今後、この形成のメカニズムを明らかにする必要がある。